材料經過真空鍍膜機鍍膜之前，都是要進行清洗的，也就是大家目前常說的真空清洗工藝，真空鍍膜機真空清洗一般定義為在真空工藝進行前，先從工件或系統材料表面清除所不期望的物質的過程。真空零部件的表面清洗處理是很必要的，因為由污染物所造成的氣體、蒸氣源會使真空系統不能獲得所要求的真空度。此外，由于污染物的存在，還會影響真空部件連接處的強度和密封性能。

一、真空加熱清洗

　　將工件放置于常壓或真空中加熱。促使其表面上的揮發雜質蒸發來達到清洗的目的，這種方法的清洗效果與工件的環境壓力、在真空中保留時間的長短、加熱溫度、污染物的類型及工件材料有關。其原理是加熱工件。促使其表面吸附的水分子和各種碳氫化合物分子的解吸作用增強。解吸增強的程度與溫度有關。在真空下，為了得到原子級清潔表面，加熱溫度必高于450度才行。加熱清洗方法特別有效。但有時，這種處理方法也會產生副作用。由于加熱的結果，可能發生某些碳氫化合物聚合成較大的團粒，并同時分解成碳渣

二、紫外線輻照清洗

　　利用紫外輻照來分解表面上的碳氫化合物。例如，在空氣中照射15h就可產生清潔的玻璃表面。如果把適當預清洗的表面放在一個產生臭氧的紫外線源中。要不了幾分鐘就可以形成清潔表面（工藝清潔)。這表明臭氧的存在增加了清潔速率。其清洗機理是：在紫外線照射下，污物分子受激并離解，而臭氧的生成和存在產生高活性的原子態氧。受激的污物分子和由污物離解產生的自由基與原子態氧作用。形成較簡單易揮發分子。如H203、CO2和N2。其反應速率隨溫度的增加而增加。

三、氣體沖洗

　　1、氮氣沖洗
　　氮氣在材料表面吸附時，由于吸附能小，因而吸留表面時間短.即便吸附在器壁上，也很容易被抽走。利用氮氣的這種性質沖洗真空系統，可以大大縮短系統的抽氣時間。如真空鍍膜機在放入大氣之前，先用干燥氮氣充入真空室沖刷一下再充入大氣，則下一抽氣循環的抽氣時間可縮短近一半，其原因為氮分予的吸附能遠比水氣分子小，在真空下充入氮氣后，氮分子先被真空室壁吸附了。由于吸附位是一定的，先被氮分子占滿了，其吸附的水分子就很少了，因而使抽氣時間縮短了。如果系統被擴散泵油噴濺污染了，還可以利用氮氣沖洗法來清洗被污染的系統.一般是一邊對系統進行烘烤加熱，一邊用氮氣沖洗系統，可將油污染消除。

　　2、反應氣體沖洗
　　這種方法特別適用于大型不銹鋼真空鍍膜機的內部洗(去除碳氫化合物污染)。通常對于某些大型真空系統的真空室和真空元件，為了獲得原子態的清潔表面，消除其表面污染的標準方法是化學清洗，真空爐焙燒、輝光放電清洗及原能烘烤真空系統等方法。以上的清洗和除氣方法常用于真空系統安裝前及裝配期間。在真空系統安裝后(或系統運行后)，由于真空系統內的各種零部件已經被固定，這時對它們進行除氣處理就很困難，一旦系統受到(偶然)污染(主要是大原子數的分子如碳氫化合物的污染)，通常要拆卸后重新處理再安裝。而用反應氣體工藝，可以進行原位在線除氣處理。有效地除去不銹鋼真空室內的碳氫化合物的污染.其清洗機理：在系統中引述氧化性氣體(O2、N0 )和還原性氣體(H2、N H3)對金屬表面進行化學反應清洗，消除污染，以便獲得原子態的清潔金屬表面。表面氧化／還原的速率取決于污染的情況及金屬表面的材質，表面反應速率的大小通過調整反應氣體的壓力和溫度來控制。對于每一種基材而言，參數要通過實驗來確定.對于不同的結晶取向，這些參數是不同的。